بهینه سازی تولید نانوسیلیس کلوئیدی از پرلیت منبسط شده با استفاده از طراحی آزمایش های تاگوچی

قیمت: 45,000 تومان

دانلود رایگان مقاله

خرید ترجمه مقاله

عنوان فارسی

بهینه سازی تولید نانوسیلیس کلوئیدی از پرلیت منبسط شده با استفاده از طراحی آزمایش های تاگوچی

عنوان لاتین

Optimization of colloidal nanosilica production from expanded perlite using Taguchi design of experiments

نانوسیلیس کلوئیدی از پرلیت در دو مرحله تهیه شد: تولید ژل مرطوب و پپتیزاسیون حرارتی. تأثیر غلظت محلول های اسیدی و قلیایی، دما و pH ژل در تولید ژل مرطوب با استفاده از طراحی آزمایش های تاگوچی مورد بررسی قرار گرفت. اثر دماي فرآيند پپتيزاسيون با استفاده از طرح عاملی کامل مورد بررسي قرار گرفت. خلوص ژل سیلیس به دست آمده با استفاده از روش فلورسانس پرتو ایکس (XRF) مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفت و ویژگی سیلیس کلوئیدی با پراکندگی نوری پویا (DLS)، میکروسکوپ الکترونی روبشی نشر میدانی (FESEM) و جذب N2 مشخص گردید. نتایج نشان دادند که نانوسیلیس خالص کلوئیدی با خلوص 99٪ تولید شده و اندازه ذرات محصول در محدوده 8 نانومتر و 74 نانومتر است. سطح ویژه نمونه خشک مزومتخلخل بهینه سازی شده m2/g 28/74 بود.

Colloidal nanosilica was prepared from perlite in two stages: production of wet gel and thermal peptization. The influence of acidic and alkaline solutions concentration, temperature and pH of the gel were investigated in wet gel production using Taguchi design of experiments. Effect of the temperature of the peptization process was studied by full factorial design. The purity of the obtained silica gel was analyzed using X-ray fluorescence (XRF) and the colloidal silica was characterized by dynamic laser scattering (DLS), field emission scanning electron microscope (FESEM) and N2 sorption analyses. Results showed that pure colloidal nanosilica with purity of 99% was produced and the particle size of the product was in the range of 8 nm and 74 nm. Specific surface area of dried optimized mesoporous sample was 74.28 m2/g.